| 发明名称 |
Metallisierung für ein Dünnschichtbauelement, Verfahren zu deren Herstellung und Sputtering Target |
| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Metallisierung für ein Dünnschichtbauelement sowie ein Verfahren zur Herstellung einer Metallisierung. Weiters betrifft die Erfindung ein Sputtering Target aus einer Mo-Basislegierung, enthaltend Al sowie Ti und übliche Verunreinigungen sowie ein Verfahren zur Herstellung eines Sputtering Targets aus einer Mo-Basislegierung. |
| 申请公布号 |
AT14576(U1) |
申请公布日期 |
2016.01.15 |
| 申请号 |
AT20140000302U |
申请日期 |
2014.08.20 |
| 申请人 |
PLANSEE SE |
发明人 |
KÖSTENBAUER HARALD;WINKLER JÖRG;JANUSCHEWSKY JUDITH;EIDENBERGER ELISABETH;LEICHTFRIED GERHARD;KATHREIN MARTIN;HWANG MOO SUNG |
| 分类号 |
C23C14/34;C23C14/14;C23C14/58 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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