一种无公害山药高产栽培方法

摘要

本发明公开了一种无公害山药高产栽培方法，其包括如下步骤：一、土质要求；二、品种选择；三、整地施肥；四、开沟种植；五、出苗期管理；六、苗期管理；七、收获时间；八、病虫害防治；九、种子贮藏。本发明所提出的一种无公害山药高产栽培方法，提高山药产出的质量和产量，同时方法简单，降低劳动强度，适宜大范围的推广应用。

主权项

一种无公害山药高产栽培方法，其包括如下步骤：一、土质要求：山药种植以壤土或沙土为宜，不带盐碱，水位在1.3米以下，表土必须细碎，没有杂质，土地平整利于铺膜。山药不能连作，否则，病害加重，产量低，品质差；二、品种选择：选择具有本品种特性、无病虫损伤、顶芽完全的山药段，为防止本品种退化，也可用山药豆作种源；三、整地施肥：每667平方米撒施50千克复合肥，将地翻耕一遍，深20～25厘米，整平。地温达12℃时，可用机械开沟种植，沟深1.3米，宽20～25厘米，沟距为0.9～1米；四、开沟种植：开沟后在埂子上开深8厘米的小沟，将种体按芽嘴顺着一个方向平放在沟内，株距20厘米，盖土厚4厘米。种植前将埂子踩实，防止灌水塌陷而损坏块茎和根系。种植前5天拉种切段，用白灰沾断面杀菌、消毒，晾晒3天种植。种植后用地膜覆盖，提温保墒，可提高产量30％以上。有条件的可采用催芽播种，催芽在25℃的温棚或温室进行，一般15天即可发芽，芽眼以黄豆大小为宜，过长容易断芽。种植后土壤以湿润为宜，种植时间为4月15日左右；五、出苗期管理：种植后30天左右出苗，出苗适宜温度为15～25℃，若温度过高，及时破膜降温，防止地膜和滴灌带烧苗。土质以湿润为宜，土质干时，可滴水但不可过多，防止埂子塌陷、土质板硬，使块茎无法向下伸长。出苗后及时定苗，搭架，苗距20厘米，架距30～40厘米，架高1.2米，两行一组；六、苗期管理：山药抗旱怕涝，在苗高80厘米之前一般不滴水，80厘米高后可轻滴水，以后每7天滴水1次，以湿润为宜。在发棵期施尿素2次，每次667平方米施8千克，随水滴入，以后随滴水每667平方米每次滴入5千克复合肥(1∶1∶1.5)；据苗情7月上旬可用多效唑化调，以后每10天用膨大素喷3次；在生育过程中喷施多种微量元素5～6次，可促使叶枝繁茂，减少病害。要及时清除田间杂草，同时避免损伤山药块茎和根系；七、收获时间：山药从出苗到收获一般为4个月，在挖山药前7天不再滴水。挖山药的工具为18～20厘米的铁锨，挖出的山药要完好无损，对伤损的断面沾白灰杀菌消毒；八、病虫害防治：生产中危害山药的害虫主要有蛴螬、蝼蛄、地老虎等。地下害虫可用3％辛硫磷颗粒剂每667平方米2～3千克撒施在播种沟内，地上害虫可用敌杀死叶面喷雾，病害可用50％多菌灵400倍液，或用75％百菌清600倍液灌根2～3次；九、种子贮藏：将断面用白灰吸干杀菌、消毒，放在2～5℃干燥的室内或菜窑中贮藏。