发明名称 塑料件金属陶瓷化磁控溅射镀膜装置
摘要 本实用新型提供了一种塑料件金属陶瓷化磁控溅射镀膜装置。它包括真空计、工件转架、多弧靶、充气管、真空室、截止阀、质量流量计、截流阀、维持阀、低真空泵组、扩散泵、粗抽阀、冷阱、精抽阀、偏压装置、平面磁控靶和圆柱磁控靶。本实用新型的塑料件上镀制高耐磨耐蚀的金属陶瓷混合薄膜的磁控溅射真空镀膜机,可实现在镀膜时间长达50分钟到一个小时的情况下,工件温升不超过70度,高真空磁控溅射靶可以6E-2帕放电溅射镀膜。对塑料基材的工件表面可镀制出膜层致密和具有良好的装饰性,耐磨性和耐腐蚀性能的薄膜。
申请公布号 CN204959024U 申请公布日期 2016.01.13
申请号 CN201520525610.3 申请日期 2015.07.20
申请人 林晶 发明人 林晶;钱锋
分类号 C23C14/35(2006.01)I 主分类号 C23C14/35(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种塑料件金属陶瓷化磁控溅射镀膜装置,其特征在于它包括真空计、工件转架、多弧靶、充气管、真空室、截止阀、质量流量计、截流阀、维持阀、低真空泵组、扩散泵、粗抽阀、冷阱、精抽阀、偏压装置、平面磁控靶和圆柱磁控靶,真空计和多弧靶安装在真空室上,工件转架、充气管、平面磁控靶和圆柱磁控靶设置在真空室内部,偏压装置连接工件转架,充气管连接截止阀,截止阀连接质量流量计,真空室连接截流阀,截流阀分别连接粗抽阀和精抽阀,粗抽阀连接低真空泵组,精抽阀连接冷阱,冷阱连接扩散泵,低真空泵组和扩散泵通过维持阀连接。
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