发明名称 一种铜锑硒太阳能电池光吸收层薄膜的低温沉积工艺
摘要 本发明公开了一种铜锑硒太阳能电池光吸收层薄膜的低温沉积工艺,其中光吸收层铜锑硒采用多源共蒸发沉积工艺制备,用束源炉蒸发各组成元素,能精确控制各源的蒸发速率至“埃每秒”量级,尤其能降低沉积速率、微调铜和锑的比例,由于铜锑硒熔点较低,且降低沉积速率可促进薄膜有序外延生长、提高结晶性,经优化薄膜沉积工艺。本发明在衬底温度低于300度即可制备出结晶性良好、符合化学计量比的铜锑硒薄膜。本发明制备方法相对于传统的热蒸发法降低了沉积温度,节约了生产成本,并为制备柔性衬底太阳能电池打下基础。
申请公布号 CN105244416A 申请公布日期 2016.01.13
申请号 CN201510707635.X 申请日期 2015.10.27
申请人 合肥工业大学 发明人 万磊;马程;胡可;徐进章
分类号 H01L31/18(2006.01)I;H01L31/032(2006.01)I 主分类号 H01L31/18(2006.01)I
代理机构 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 代理人 乔恒婷
主权项 一种铜锑硒太阳能电池光吸收层薄膜的低温沉积工艺,采用共蒸法,其特征在于包括如下步骤:将镀钼玻璃衬底置于多源热蒸发镀膜系统的衬底上并抽真空至5×10<sup>‑4</sup>Pa,将铜、锑和硒的束源炉温度分别升温至1100‑1200℃、500‑600℃以及200‑300℃;将衬底温度升至250‑290℃并保持恒定,打开衬底挡板和锑、硒束源炉挡板,向镀钼玻璃衬底表面先蒸镀锑和硒20‑30分钟;然后打开铜束源炉挡板,同时蒸镀铜、锑、硒80‑90分钟;最后关闭铜、锑束源炉挡板,再继续蒸镀硒20‑30分钟;蒸镀结束后将衬底温度降至室温得到铜锑硒薄膜。
地址 230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号