| 摘要 |
이온 주입 시스템에서 입자 오염을 감소시키기 위한 방법이 개시되며, 여기서 이온 빔은 추출 전극 어셈블리와 함께 동작하는 이온 소스를 통해 생성된다. 캐소드 전압은 그 내부에서 이온들을 생성하기 위한 이온 소스에 인가되고, 억제 전압은 이온 빔 내의 전자들을 이온 소스 내부로 끌어당겨지는 것을 방지하기 위한 추출 어셈블리에 인가된다. 억제 전압은 선택적으로 변조되고, 이에 의해 워크피스들의 후속 오염을 경감시키기 위해 그 표면들 상의 증착물들을 제거하기 위해 추출 어셈블리를 통해 전류 흐름 또는 아크 방전을 유도시킨다. 이온 주입 시스템에 대한 개선책은 또한 전술한 바에 따라 개시되며, 여기서 컨트롤러는 워크피스의 전달과 일반적으로 동시에 미리결정된 전압과 미리결정된 억제 전압 사이의 전압을 선택적으로 변조시키도록 구성되어, 이에 의해 그 표면들 상의 증착물들을 제거하기 위해 추출 전극 어셈블리를 통한 전류 흐름 또는 아크 방전을 유도하여 워크피스들의 후속 오염을 경감시킨다. |
