发明名称 一种新型颅底修补装置
摘要 本实用新型公开了一种新型颅底修补装置,包括:支架、人工修补膜、所述的支架由多个撑杆组成的网状结构,所述的撑杆为具有弹性的钛合金制成,所述的人工修补膜为人造膜,具有吸水性和培养基,多根撑杆支撑在颅骨缺口两端的颅骨上组成网状的支架,所述的人工修补膜覆盖在支架上,并将支架完全覆盖,本实用新型可以将脑底颅骨缺损进行有效的封堵修补,不会出现颅内外沟通腔隙、脑脊液漏的现象,而且采用该修补装置,可以对颅底其他部位的手术切口进行封堵,使得手术路径更直接,术区暴露更清楚。
申请公布号 CN204951018U 申请公布日期 2016.01.13
申请号 CN201520713988.6 申请日期 2015.09.15
申请人 西安东澳生物科技有限公司 发明人 刘文博;薛菁;晁晓东
分类号 A61B17/00(2006.01)I 主分类号 A61B17/00(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种新型颅底修补装置,其特征在于,包括:支架(1),人工修补膜(2),所述的支架(1)安装在颅骨缺口(4)上,颅腔内,所述的人工修补膜(2)在颅腔内,覆盖在支架(1)上,并将支架(1)完全覆盖。
地址 710016 陕西省西安市经济开发区草滩生态产业园草滩十路1155号1号楼6层
您可能感兴趣的专利