发明名称 METHOD OF PRODUCING A SILICON MOS-TRANSISTOR
摘要 Винахід належить до галузі радіоелектронного матеріалознавства і може бути використаний у радіоелектронному, напівпровідниковому та оптоелектронному приладобудуванні, зокрема при виробництві кремнієвих польових транзисторів. Спосіб отримання кремнієвого МДН-транзистора з довжиною каналу 2-10 мкм і шириною 50 мкм полягає у застосуванні рентгенівського опромінення 870 Р/с протягом 5-10 хв. та поляризації-деполяризації електричним полем U=-10 В підзатворного діелектрика, при одночасному нагріві транзистора ІЧ-променями до Т=(435-450)K. Технічним результатом винаходу є зростання рухливості носіїв в каналі МДН-транзистора.
申请公布号 UA110461(C2) 申请公布日期 2016.01.12
申请号 UA20120001180 申请日期 2012.02.06
申请人 IVAN FRANKO LVIV NATIONAL UNIVERSITY 发明人
分类号 H01L21/26;H01L21/02;H01L21/326 主分类号 H01L21/26
代理机构 代理人
主权项
地址