| 发明名称 |
PROCESS COMPRISING WATER VAPOR FOR HAZE ELIMINATION AND RESIDUE REMOVAL |
| 摘要 |
기판을 처리하는 방법은 헹굼 단계 이전의 처리된 기판을 제공하도록 처리 프로토콜을 이용하여 기판으로부터 물질을 제거하는 것을 포함한다. 헹굼 단계에서, 헹굼 유체를 포함하는 적어도 하나의 스트림이 도입되고, 수증기가 헹굼 유체와 충돌하여 원자화되게 된다. 원자화된 헹굼 유체는 처리된 기판에 헹굼 가능하게 접촉하게 된다. |
| 申请公布号 |
KR20160003636(A) |
申请公布日期 |
2016.01.11 |
| 申请号 |
KR20157025347 |
申请日期 |
2014.04.17 |
| 申请人 |
TEL FSI, INC. |
发明人 |
LAUERHAAS JEFFREY M;KAHAIAN DON |
| 分类号 |
H01L21/02;B08B11/00;H01L21/311 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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