发明名称 |
接近侦测器件,侦测接近之方法及电子装置 |
摘要 |
接近侦测器件包括:具有一显示影像表面的一显示单元,在显示影像表面中以一矩阵形状配置复数个像素电极;及一接近操作侦测单元,在接近操作侦测单元中用于接近操作侦测之一透明电极经配置以在叠加于该显示影像表面上之一位置处形成一操作表面,且形成该透明电极之一导电膜图案具有等于或小于该等像素电极之一方向上之一配置间距的一线性图案之一间距。
|
申请公布号 |
TWI516834 |
申请公布日期 |
2016.01.11 |
申请号 |
TW101141946 |
申请日期 |
2012.11.09 |
申请人 |
日本显示器股份有限公司 |
发明人 |
安达浩一郎 |
分类号 |
G02F1/1333(2006.01);G02F1/1343(2006.01);G09F9/00(2006.01);G06F3/041(2006.01) |
主分类号 |
G02F1/1333(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种接近侦测器件,其包含:一显示单元,其具有一显示影像表面,在该显示影像表面中以一矩阵形状配置复数个像素电极;及一接近操作侦测单元,在该接近操作侦测单元中用于接近操作侦测之一透明电极经配置以在叠加于该显示影像表面上之一位置处形成一操作表面,且形成该透明电极之一导电膜图案为一连续弯曲线或一图案;且该导电膜图案包含由弯曲线状之第一缝隙所分割之充当电极之复数电极图案部分及由弯曲线状之第二缝隙所分割之不充当电极之复数虚设图案部分;该电极图案部分及该虚设图案部分两者之该导电膜图案为具有第一直线部分及第二直线部分,且为该第一直线部分及该第二直线部分弯曲之弯曲线图案;该电极图案部分之该第一直线部分及该第二直线部分所成之角度系与该虚设图案部分之该第一直线部分及该第二直线部分所成之角度相等。
|
地址 |
日本 |