发明名称 |
电极保护膜形成剂 |
摘要 |
明在于提供即使在150℃以下的低温烧成亦可形成足够硬度的电极保护膜之电极保护膜形成剂、电极保护膜及具有该电极保护膜之电子装置。尤其用于液晶显示元件之场合,提供可形成抑制龟裂或针孔产生的液晶配向膜之电极保护膜形成剂。 |
申请公布号 |
TWI516526 |
申请公布日期 |
2016.01.11 |
申请号 |
TW099141971 |
申请日期 |
2010.12.02 |
申请人 |
日产化学工业股份有限公司 |
发明人 |
元山贤一;村梶庆太 |
分类号 |
C08G77/18(2006.01);G02F1/1333(2006.01) |
主分类号 |
C08G77/18(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
一种电极保护膜形成剂,其特征系含有含由式(1)所表示之烷氧基矽烷及式(2)所表示之烷氧基矽烷所组成群中选出之至少1种之化合物的烷氧基矽烷进行聚缩合而得到的聚矽氧烷,且前述式(1)所表示之烷氧基矽烷在全烷氧基矽烷中含0.5~60莫耳%,前述式(2)所表示之烷氧基矽烷在全烷氧基矽烷中含40~99.5莫耳%,R1{Si(OR2)3}P (1)(R1为以脲基所取代的碳原子数1~12之烃基,R2为碳原子数1~5之烷基,p为1或2之整数)(R3)nSi(OR4)4-n (2)(R3为可以氢原子、或杂原子、卤素原子、乙烯基、胺基、环氧丙氧基、巯基、甲基丙烯醯氧基、异氰酸酯基或丙烯醯氧基取代的碳原子数1~8之烃基,R4为碳原子数1~5之烷基,n为0~3之整数)。
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地址 |
日本 |