LITHOGRAPHIC APPARATUS COMPRISING A MAGNET METHOD FOR THE PROTECTION OF A MAGNET IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD

摘要

리소그래피 장치(1)는 보호 인클로저(110) 내에 포함된 자석(100)을 포함하고, 상기 보호 인클로저(110)는 H-함유 또는 H-원자 함유 가스와의 접촉으로부터 상기 자석(100)을 보호하도록 배치된다. 상기 인클로저(110)는 수소 게터(120), 자석-표면 변형 가스(130), 또는 비-수소 함유 가스(130)를 더 포함할 수 있다. 비-수소 함유 가스 유동이 제공될 수 있거나, 상기 보호 인클로저(110)의 적어도 일부분을 통해 자석-표면 변형 가스 유동이 제공될 수 있다.