| 发明名称 | 电解处理方法及电解处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明的电解处理方法是使用处理液所含有的被处理离子进行规定处理，且包括：电极配置步骤，以隔着所述处理液的方式分别配置直接电极与对向电极，并且配置在该处理液中形成电场的间接电极；被处理离子移动步骤，通过对所述间接电极施加电压，而使所述处理液中的被处理离子向所述对向电极侧移动；及被处理离子氧化还原步骤，通过对所述直接电极与所述对向电极之间施加电压，而使移动到所述对向电极侧的所述被处理离子氧化或还原。 | ||
| 申请公布号 | CN105229205A | 申请公布日期 | 2016.01.06 |
| 申请号 | CN201480026921.3 | 申请日期 | 2014.05.12 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社;国立大学法人熊本大学 | 发明人 | 岩津春生;秋山秀典 |
| 分类号 | C25D17/10(2006.01)I;C02F1/46(2006.01)I;C02F1/461(2006.01)I | 主分类号 | C25D17/10(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人 | 路勇 |
| 主权项 | 一种电解处理方法，其是使用处理液所含有的被处理离子进行规定处理的电解处理方法，且包括：电极配置步骤，以隔着所述处理液的方式分别配置直接电极与对向电极，并且配置在该处理液中形成电场的间接电极；被处理离子移动步骤，通过对所述间接电极施加电压，而使所述处理液中的被处理离子向所述对向电极侧移动；及被处理离子氧化还原步骤，通过对所述直接电极与所述对向电极之间施加电压，而使移动到所述对向电极侧的所述被处理离子氧化或还原。 | ||
| 地址 | 日本国东京都 | ||