表面活性添加剂及包含该添加剂之光阻剂组成物

摘要

聚合物，包括单体之聚合产物，该单体包括含氮单体(其包括式(Ia)、式(Ib)或式(Ia)及式(Ib)之组合)，及具有式(II)之酸可去保护之单体(acid-deprotectable monomer)：

主权项

一种光阻剂，包括：包括酸敏感基团及含内酯基团之酸敏感聚合物，光酸产生剂，及与该之酸敏感聚合物不同之聚合淬灭剂，该聚合淬灭剂包括包含下列单体的聚合产物：含氮单体，其包括式(Ia)、式(Ib)或式(Ia)及式(Ib)之组合；以及具有式(II)之酸可去保护之单体：

其中：a为0或1；各Ra独立为H、F、C1-10烷基或C1-10氟烷基；
L1为直链或分支链C1-20伸烷基，或单环、多环、或稠合多环之C3-20伸环烷基，各Rb独立为H、C1-10烷基、C3-20环烷基、C3-20杂环烷基、脂族C5-20氧基羰基，或视需要包含杂原子取代基之C1-30醯基，其中各Rb系分开或至少一个Rb系附着于相邻之Rb；LN为含氮之单环、多环、或稠合多环之C3-20伸杂环烷基；及X为H、C1-10烷基、脂族C5-20氧基羰基，或视需要包含杂原子取代基之C1-30醯基；及各Rc独立为C1-10烷基、C3-20环烷基或C3-20杂环烷基，其中各Rc系分开或至少一个Rc系附着于相邻之Rc。