用于形成氧化矽类绝缘层的组成物、氧化矽类绝缘层及氧化矽类绝缘层的制造方法

摘要

露一种用于形成氧化矽类绝缘层的组成物，所述组成物包括有机矽烷类缩合聚合产物以及溶剂，所述有机矽烷类缩合聚合产物包括由以下化学式1表示的结构单元。

主权项

一种用于形成氧化矽类绝缘层的组成物，包括：有机矽烷类缩合聚合产物，包括由以下化学式1表示的结构单元；以及溶剂：

其中，在上述化学式1中，R1为氢、羟基、经取代或未经取代的C1至C4烷基、经取代或未经取代的C6至C20芳基、乙烯基或其组合，R2至R4各自独立地为氢、羟基、经取代或未经取代的C1至C20烷氧基、含卤素基团、含矽基团或其组合，m为1至6的整数；且x、y及z代表每一重复单元的相对莫耳比例，0.05x0.50，0.45y0.90，0.05z0.50，且x+y+z=1。