发明名称 在两个相背对之宽面上各载有一基板之基板载具
摘要 明系有关一种基板载具及一种与此基板载具配合作用的CVD反应器,此种基板载具可设于CVD反应器或PVD反应器(20)内,特别是用于沈积碳奈米管或石墨烯,包括用于容置待涂布基板(6)的第一宽面区(2)及背对第一宽面区(2)的第二宽面区(3)。为了对用于沈积碳奈米管之装置或装置部件进行改良,提出以下建议:第一宽面区(2)及第二宽面区(3)各具有基板容置区(4、5),在此等基板容置区内设有紧固元件(14、14'、15),此等紧固元件可分别将基板(6)或基板(6)之区段固定于宽面区(2、3)上。本发明另亦有关一种包含此种基板载具(1)的CVD反应器。
申请公布号 TW201601235 申请公布日期 2016.01.01
申请号 TW104109172 申请日期 2015.03.23
申请人 爱思强欧洲公司 发明人 裘弗瑞 亚历山大;里平顿 大卫 艾瑞克;泰奥 肯尼思;鲁帕辛哈 纳林
分类号 H01L21/673(2006.01);C23C16/458(2006.01) 主分类号 H01L21/673(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项 一种基板载具,可设于CVD反应器或PVD反应器(20)内,特别是用于沈积碳奈米管及石墨烯,包括用于容置待涂布基板(6)的第一宽面区(2)及背对该第一宽面区(2)的第二宽面区(3),其中,该第一宽面区(2)及该第二宽面区(3)各具有基板容置区(4、5),在此等基板容置区内设有紧固元件(14、14'、15),此等紧固元件可分别将基板(6)或基板(6)之区段固定于该宽面区(2、3)上,其特征在于:此基板载具(1)为扁平体,而且,该基板容置区(4、5)具有两个相背对的第一边缘(4')及横向于该等第一边缘(4')而延伸的第二边缘(11),其中,该等第一边缘(4')各连接一操作段(7),此操作段具有突出于该等第二边缘(11)之外的突出部(12)。
地址 德国