膜片曝光方法

摘要

片基材(20)上的曝光图案形成用区域形成有曝光材料膜(21)之膜片(2)中，于其宽度方向之两侧边缘部至少一方涂布了有色煆烧材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成了侧部涂布膜(22)，并藉由对准标志形成部(14)照射雷射光以形成对准标志(2a)，而使用该对准标志(2a)来侦测膜片曲折，以调整遮罩(12)的位置。藉此，对在膜片基材上的曝光图案形成区域形成有曝光材料膜之膜片进行连续曝光之际，容易形成对准标志以及容易侦测所形成的对准标志，可高精度地修正膜片的曲折，来稳定地进行曝光。

主权项

一种膜片曝光方法，系对于在膜片基材上的曝光形成用区域形成有曝光材料膜之膜片的该曝光材料膜，透过遮罩来照射曝光光线，藉此将该遮罩的图案曝光在该曝光材料膜上；该膜片曝光方法之特征在于：该遮罩系分别配置在该膜片的移动方向之上游侧及下游侧，在该膜片的移动方向之上游侧及下游侧，将该上游侧遮罩与下游侧遮罩的图案分别曝光在该曝光材料膜上；对于该膜片基材的宽度方向之两侧边缘部中至少一方，供给涂布了有色煆烧材料、有色光硬化性材料或有色墨水而形成有侧部涂布膜之膜片，并对该侧部涂布膜照射对准标志用雷射光以形成对准标志，而使用该对准标志来侦测膜片曲折，以调整该遮罩的位置时，在与该膜片的移动方向之该上游侧遮罩的位置对应之位置，于该侧部涂布膜上形成该对准标志，并在与该膜片的移动方向之该下游侧遮罩的位置对应之位置，侦测该对准标志，藉此而侦测在该膜片从利用该上游侧遮罩的曝光区域移动至利用该下游侧遮罩的曝光区域为止所产生之膜片曲折，依因为该膜片曲折而偏移的量来修正该下游侧遮罩对于该膜片之相对位置。