发明名称 |
包含供无空隙次微米结构特征填充之抑制剂的金属电镀用组合物 |
摘要 |
明系关于一种包括至少一种金属离子源及至少一种添加剂之组合物,该至少一种添加剂可藉由使包含至少5个羟基官能基的多元醇与来自第一环氧烷与第二环氧烷之混合物之至少该第一环氧烷及该第二环氧烷反应或与第三环氧烷、第二环氧烷及第一环氧烷依此顺序反应获得,该第三环氧烷具有比该第二环氧烷长的烷基链且该第二环氧烷具有比该第一环氧烷长的烷基链。 |
申请公布号 |
TWI515341 |
申请公布日期 |
2016.01.01 |
申请号 |
TW099125505 |
申请日期 |
2010.07.30 |
申请人 |
巴地斯颜料化工厂 |
发明人 |
罗杰 康尼利亚;瑞索 罗曼 班尼狄克;梅尔 迪尔特;贺格 亚力山佐;伊尼特 夏落特 |
分类号 |
C25D3/38(2006.01);C25D7/12(2006.01) |
主分类号 |
C25D3/38(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
一种包含至少一种铜源及至少一种添加剂之组合物,该至少一种添加剂可藉由使a)与b)反应获得:a)包括至少5个羟基官能基之多元醇与b)来自第一环氧烷与第二环氧烷之混合物之至少该第一环氧烷及该第二环氧烷,以形成该第一环氧烷与该第二环氧烷之无规共聚物。
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地址 |
德国 |