遮罩之缺陷检查方法

摘要

一种检查方法及检查装置，可一方面检测出本来应检测出之缺陷，另一方面减低不必要之缺陷检测。
针对在藉晶粒-对-资料库方式之比较下被当作缺陷之地方，若从该地方至在最接近该地方而求出尺寸差的地方之尺寸分布，对照于在包含判定为缺陷之地方的长条内之尺寸分布，或者，对照于从比该长条之前取得尺寸差之长条所推测之晶片图案的尺寸分布而为既定的范围内，则一方面将依照晶粒-对-资料库方式之结果作保存，另一方面若超过既定之范围，则代替依照前述晶粒-对-资料库方式之结果而将依照单元方式之结果作保存。

主权项

一种遮罩之缺陷检查方法，特征在于：具有：将形成了复数之晶片图案的样品沿着既定方向而长条状地以复数之长条作假想分割，按前述长条取得前述晶片图案的光学影像之程序；基于前述晶片图案之设计资料而实施滤波处理，而作成对应于前述光学影像的参照影像之程序；将前述晶片图案依照晶粒-对-资料库方式而作比较，同时将前述晶片图案内之重复图案部藉单元方式而作比较之程序；求出前述光学影像之图案、及与该图案依照晶粒-对-资料库方式而作比较之参照影像的图案之尺寸差及尺寸比率的至少一方之程序；以及从前述尺寸差及尺寸比率之至少一方求出前述复数之晶片图案的尺寸分布之程序，针对在依照前述晶粒-对-资料库方式之比较下被当作缺陷的地方，若从该地方至在最接近该地方而求出尺寸差及尺寸比率之至少一方的地方之尺寸分布，对照于在包含前述判定为缺陷之地方的长条内之尺寸分布，或者，对照于从比该长条之前取得尺寸差之长条所推测之前述晶片图案的尺寸分布而为既定的范围内，则将依照前述晶粒-对-资料库方式之结果作保存，若从前述判定为缺陷之地方至在最接近该地方而求出尺寸差及尺寸比率之至少一方
的地方之尺寸分布，对照于在包含前述判定为缺陷之地方的长条内之尺寸分布，或者，对照于从在比该长条之前取得尺寸差之长条所推测的前述晶片图案的尺寸分布而为超过前述既定的范围，则代替依照前述晶粒-对-资料库方式之结果而保存依照前述单元方式之结果。