发明名称 Projektionsbelichtungsanlage mit zeitlich konstanter Temperaturbelastung der optischen Elemente sowie Verfahren zum Betrieb einr derartigen Anlage
摘要 Die vorliegende Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) und ein Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer Lichtquelle (2), einer Beleuchtungseinheit (3), die mindestens ein optisches Element zur Beleuchtung eines Retikels (4) aufweist, und mit einem Projektionsobjektiv (5) mit mindestens einem optischen Element (7), durch das das Retikel (4) in einer Objektebene in eine Bildebene abgebildet wird, wobei die Beleuchtungseinheit (3) das Retikel (4) in verschiedenen Beleuchtungseinstellungen beleuchten kann, und wobei die Projektionsbelichtungsanlage (1) mindestens eine Temperiereinrichtung (8, 16) zur Temperierung mindestens eines temperierbaren, optischen Elements (7) sowie eine Steuerungs- und/oder Regelungseinrichtung (17) mit einem Speicher (18) aufweist, wobei die Temperiereinrichtung (8, 16) so ausgebildet ist, dass das mindestens eine temperierbare, optische Element (7) lokal so temperiert werden kann, dass die Temperiereinrichtung (8, 16) über dem temperierbaren, optischen Element (7) ein Temperaturprofil (12) erzeugen kann, welches so gewählt ist, dass das Temperaturprofil (12) für alle verschiedenen Beleuchtungseinstellungen der Beleuchtungseinheit (3) und/oder einer Abbildungseinstellung des Projektionsobjektivs (5) gleich ist, wobei das Temperaturprofil (12) in dem Speicher (18) der Steuerungs- und/oder Regelungseinrichtung (17) gespeichert ist.
申请公布号 DE102015220499(A1) 申请公布日期 2015.12.31
申请号 DE201510220499 申请日期 2015.10.21
申请人 CARL ZEISS SMT GMBH 发明人 GOETZ, ANDRÉ;SCHICKETANZ, THOMAS
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
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