发明名称 |
用于工业制造的构件的清洁设施 |
摘要 |
为了将用于工业制造的构件的清洁设施的基面尽可能小地保持而提出:清洁设施的工艺室(4、5、23)和机械手室(3)设置在基板(7)上,基板(7)的基面(8)比工艺室(4、5、23)和机械手室(3)的共同的基面(9)更大,并且在基板(7)中设有用于容纳工艺流体的至少两个在空间上分开的空腔(10、11、20),所述空腔(10、11、20)分别至少部分地在所述工艺室(4、5、23)的下方并且至少部分地在所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)的共同的基面(9)之外延伸,并且在基板(7)上在至少一个空腔(10、11、20)上方设置有液压回路的至少一个液压部件。 |
申请公布号 |
CN105209183A |
申请公布日期 |
2015.12.30 |
申请号 |
CN201480011650.4 |
申请日期 |
2014.02.04 |
申请人 |
特莫式启钥制造方案工程有限公司 |
发明人 |
R·维腾多尔夫;M·安布鲁斯特;P·恩巴赫 |
分类号 |
B08B3/02(2006.01)I;B08B3/04(2006.01)I |
主分类号 |
B08B3/02(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 |
代理人 |
卫娟 |
主权项 |
用于工业制造的构件(2)的清洁设施,该清洁设施具有至少两个在空间上彼此分开的工艺室(4、5、23)和一个相邻的、在空间上与所述工艺室分开的机械手室(3),所述工艺室和机械手室设置在共同的基板(7)上,其中,为每个工艺室(4、5、23)设有自有的液压回路,以将工艺流体输送到所述工艺室(4、5、23)中,其特征在于,所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)形成共同的基面(9),并且所述基板(7)形成基面(8),其中,所述基板(7)的基面(8)比所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)的共同的基面(9)更大,在所述基板(7)中设有用于容纳工艺流体的至少两个在空间上分开的空腔(10、11、20),所述空腔(10、11、20)分别至少部分地在所述工艺室(4、5、23)的下方并且至少部分地在所述工艺室(4、5、23)和所述机械手室(3)的共同的基面(9)之外延伸,并且在基板(7)上在至少一个空腔(10、11、20)上方设置有液压回路的至少一个液压部件。 |
地址 |
奥地利林茨 |