发明名称 |
环形等离子体减少设备和方法 |
摘要 |
提供用于减少气体的设备。该设备包含环形等离子体腔室,其具有多个进口和一个出口,和至少一个腔室壁。一个或多个磁芯相对于环形等离子体腔室设置。等离子体腔室限定环形等离子体。第二气体进口设置在环形等离子体腔室上,且设置在第一气体进口和气体出口之间并与该气体出口相距距离d,从而第一气体进口和第二气体进口之间的环形等离子体通道体积基本上由惰性气体填充,该距离d基于所需的要减少的气体的停留时间。 |
申请公布号 |
CN105209156A |
申请公布日期 |
2015.12.30 |
申请号 |
CN201480027798.7 |
申请日期 |
2014.03.14 |
申请人 |
MKS仪器股份有限公司 |
发明人 |
陈星;I·泊齐多夫;田丰;K·特兰;D·兰姆;K·W·文策尔 |
分类号 |
B01D53/32(2006.01)I;B01J12/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I |
主分类号 |
B01D53/32(2006.01)I |
代理机构 |
上海专利商标事务所有限公司 31100 |
代理人 |
陈哲锋;郭辉 |
主权项 |
一种用于减少气体的设备,所述设备包含:环形等离子体腔室,该等离子体腔室具有接收用于灼烧成等离子体的惰性气体的第一气体进口,接收要减少的气体的第二气体进口,气体出口,和用于包含气体的至少一个腔室壁;相对于环形等离子体腔室设置的一个或多个磁芯,从而环形等离子体腔室穿过所述一个或多个磁芯中的每一个;和耦合到所述一个或多个磁芯的初级线组,该等离子体腔室沿着延伸穿过等离子体腔室的平面限定环形等离子体,以及,第二气体进口设置在环形等离子体腔室上,且设置在第一气体进口和气体出口之间并沿着所述平面与该气体出口相距距离d,从而第一气体进口和第二气体进口之间的环形等离子体通道体积基本上由惰性气体填充,该距离d基于所需的要减少的气体的停留时间。 |
地址 |
美国马萨诸塞州 |