| 发明名称 | 常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法，包括：检测得到全年大气压力变化趋势；将全年大气压力变化趋势分成若干不同的压力范围区间；设定每个压力范围区间内薄膜的生长时间，以使薄膜达到目标厚度；按照所设定的时间在常压炉管中生长薄膜。本发明的常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法，可以减小在全年不同的压力下所得到的薄膜厚度差异，实现常压炉管生长的薄膜厚度的可控性。 | ||
| 申请公布号 | CN105200399A | 申请公布日期 | 2015.12.30 |
| 申请号 | CN201510546241.0 | 申请日期 | 2015.08.31 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 祁鹏;王智;苏俊铭 |
| 分类号 | C23C16/52(2006.01)I;H01L21/283(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/52(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人 | 吴世华;陈慧弘 |
| 主权项 | 一种常压炉管生长的薄膜厚度的控制方法，其特征在于，包括：检测得到全年大气压力变化趋势；将所述全年大气压力变化趋势分成若干不同的压力范围区间；设定每个所述压力范围区间内薄膜的生长时间，以使薄膜达到目标厚度；按照所设定的时间在常压炉管中生长薄膜。 | ||
| 地址 | 201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号 | ||