发明名称 具有适于保护抵抗氟等离子体的保护涂层的腔室部件
摘要 本文所述的实施方式关于一种保护涂层,所述保护涂层保护腐蚀环境内的下伏腔室部件免于受到腐蚀或劣化。所述腔室部件具有包含陶瓷材料的表面。设置在所述表面的涂层包含氧化镁、氧化镧或氟化镧。
申请公布号 CN105190847A 申请公布日期 2015.12.23
申请号 CN201480013077.0 申请日期 2014.02.06
申请人 应用材料公司 发明人 松·T·阮;迈克尔·方
分类号 H01L21/3065(2006.01)I 主分类号 H01L21/3065(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 徐金国;赵静
主权项 一种供用于等离子体处理腔室中的装置,所述装置包含:腔室部件,所述腔室部件具有表面,其中所述表面包含陶瓷材料;及涂层,所述涂层设置于所述腔室部件的所述表面上,所述涂层包含氧化镁、氧化镧或氟化镧。
地址 美国加利福尼亚州