发明名称 | 具有适于保护抵抗氟等离子体的保护涂层的腔室部件 | ||
摘要 | 本文所述的实施方式关于一种保护涂层,所述保护涂层保护腐蚀环境内的下伏腔室部件免于受到腐蚀或劣化。所述腔室部件具有包含陶瓷材料的表面。设置在所述表面的涂层包含氧化镁、氧化镧或氟化镧。 | ||
申请公布号 | CN105190847A | 申请公布日期 | 2015.12.23 |
申请号 | CN201480013077.0 | 申请日期 | 2014.02.06 |
申请人 | 应用材料公司 | 发明人 | 松·T·阮;迈克尔·方 |
分类号 | H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01)I |
代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人 | 徐金国;赵静 |
主权项 | 一种供用于等离子体处理腔室中的装置,所述装置包含:腔室部件,所述腔室部件具有表面,其中所述表面包含陶瓷材料;及涂层,所述涂层设置于所述腔室部件的所述表面上,所述涂层包含氧化镁、氧化镧或氟化镧。 | ||
地址 | 美国加利福尼亚州 |