| 发明名称 | 一种阵列基板及其制作方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够有效利用遮光区。所述阵列基板包括多个透光区，以及围绕每个所述透光区的遮光区，所述遮光区上包括依次层叠设置的第一电极、光电转换薄膜和第二电极，所述第一电极、所述光电转换薄膜和所述第二电极构成光电转换单元，所述第一电极为透明电极。本发明提供的阵列基板可应用于显示装置中。 | ||
| 申请公布号 | CN105182598A | 申请公布日期 | 2015.12.23 |
| 申请号 | CN201510660959.2 | 申请日期 | 2015.10.12 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 高锦成;曹占锋;张锋 |
| 分类号 | G02F1/1335(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1335(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括多个透光区，以及围绕每个所述透光区的遮光区，其特征在于，所述遮光区上包括依次层叠设置的第一电极、光电转换薄膜和第二电极，所述第一电极、所述光电转换薄膜和所述第二电极构成光电转换单元，所述第一电极为透明电极。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||