用以制造液晶显示装置用之阵列基板的方法及铜系金属层用之蚀刻剂组成物

主权项

一种制造液晶显示装置用之阵列基板的方法，其包含：1)使用蚀刻剂组成物蚀刻配置在基板上之铜(Cu)系金属层，因此形成闸极；2)形成使该闸极绝缘之闸极绝缘层；3)在该闸极绝缘层上形成半导体层；4)形成使该半导体层绝缘之绝缘层；5)在使该半导体层绝缘之该绝缘层上形成铜系金属层，而且使用该蚀刻剂组成物蚀刻该铜系金属层，因此形成源极/汲极；及6)形成电连接该汲极之像素电极，其中1)及5)之该蚀刻剂组成物按组成物之总重量计系包含a)5~25重量%之过氧化氢(H2O2)；b)0.1~5重量%之硫酸；c)0.01~1.0重量%之含氟化合物；d)0.1~5重量%之唑化合物；e)0.1~5重量%之咪唑化合物；及f)其余为水，其中该蚀刻剂组成物不包含羧酸与磷酸盐。