发明名称 氧化物半导体膜及半导体装置
摘要
申请公布号 TWI514581 申请公布日期 2015.12.21
申请号 TW102131055 申请日期 2011.12.01
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 山崎舜平;津吹将志;秋元健吾;大原宏树;本田达也;小俣贵嗣;野中裕介;高桥正弘;宫永昭治
分类号 H01L29/78;H01L21/336 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种半导体装置,包含:闸极电极;包含结晶区域之氧化物半导体膜;及介于该闸极电极与该氧化物半导体膜之间的闸极绝缘膜,其中该结晶区域具有其中c轴与该氧化物半导体膜之一表面实质上垂直的晶体结构,其中该氧化物半导体膜系在非单晶态中,及其中该氧化物半导体膜不包含晶界于该结晶区域之介面上。
地址 日本