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经营范围
发明名称
氧化物半导体膜及半导体装置
摘要
申请公布号
TWI514581
申请公布日期
2015.12.21
申请号
TW102131055
申请日期
2011.12.01
申请人
半导体能源研究所股份有限公司
发明人
山崎舜平;津吹将志;秋元健吾;大原宏树;本田达也;小俣贵嗣;野中裕介;高桥正弘;宫永昭治
分类号
H01L29/78;H01L21/336
主分类号
H01L29/78
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
一种半导体装置,包含:闸极电极;包含结晶区域之氧化物半导体膜;及介于该闸极电极与该氧化物半导体膜之间的闸极绝缘膜,其中该结晶区域具有其中c轴与该氧化物半导体膜之一表面实质上垂直的晶体结构,其中该氧化物半导体膜系在非单晶态中,及其中该氧化物半导体膜不包含晶界于该结晶区域之介面上。
地址
日本
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