| 发明名称 |
MULTI TRAP APPRATUS AND EXHAUST SYSTEM FOR USING MULTI TRAP APPRATUS |
| 摘要 |
<p>본 발명은 내부공간으로 유입되는 프로세스 가스를 이온화시키고, 이온화된 상기 프로세스 가스를 고온의 열을 이용하여 성막형태로 증착시키는 포집하우징부를 포함하는 멀티포집장치로 구성되어 반도체 공정챔버에서 반응하지 않은 미반응 가스 및 반응 부산물을 이온화시키고, 고온의 열로 증착하여 포집율을 향상시킬 수 있다.</p> |
| 申请公布号 |
KR20150141379(A) |
申请公布日期 |
2015.12.18 |
| 申请号 |
KR20140070021 |
申请日期 |
2014.06.10 |
| 申请人 |
THERMTECS CO., LTD. |
发明人 |
KO, SUNG KEUN;SEO, PANG GIL |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/302;H01L21/324 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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