用于电子束或远紫外线平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物

摘要

提供一种用于EB或EUV平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物，其包括(A)聚合物或聚合物共混物，其中聚合物或聚合物共混物的薄膜不可溶于碱性显影剂，但是在酸的作用下变为可溶于其中，(B)酸产生剂，(C)碱性化合物，和(D)溶剂。碱性化合物(C)为包括带有侧链的重复单元的聚合物，并且构成作为组分(A)的一种聚合物或多种聚合物的一部分或全部，所述侧链具有仲胺或叔胺结构作为碱性活性位点。

主权项

一种用于电子束或远紫外线平版印刷的化学放大正性抗蚀剂组合物，包括组分A聚合物或聚合物共混物，至少一种聚合物具有被酸去保护的保护基，其使得聚合物或聚合物共混物的薄膜不可溶于碱性显影剂，但是在酸的作用下变为可溶于其中，组分B能够产生酸的酸产生剂，组分C用于抑制酸作用的碱性化合物，和组分D溶剂，其中作为组分C的碱性化合物为包括通式(1)和(2)的重复单元、通式(3)的重复单元以及通式(5)或(6)的重复单元的聚合物，并且构成作为组分A的至少一种聚合物，和该组合物可以任选进一步包括以每摩尔作为组分B的酸产生剂计，用量为至多1/20摩尔的分子量为至多1,000的化合物作为不同于聚合物形式的碱性化合物的组分C，其中A为单键，R¹各自独立地为氢或甲基，R²各自独立地为C₁‑C₆烷基，B¹和B²为单键，B³为选自可以包含醚氧原子的直链或支化C₁‑C₁₀亚烷基的键基，Z¹和Z²为单键，R³和R⁴各自独立地为氢或可以包含杂原子的一价C₁‑C₁₀烃基，条件是R³和R⁴不同时为氢，R³和R⁴可以与其连接的氮原子一起键合成环，当它们成环时，R³和R⁴为可以包含杂原子的二价C₂‑C₁₂烃基，B³可以与R³或R⁴以及与其连接的氮原子一起键合成环，在这种情况下，含氮环为5至7‑元环，其排除孤对氮原子赋予含氨环芳香性的结构环，以及含氮环不是芳族环，a为0至4的整数，b为1至5的正整数，p和q各自独立地为0或1，t为0至2的整数，条件是当q＝0和Z¹和Z²为单键时，B³应包含至少两个来源于亚烷基或芳基的连续碳原子，其中C为单键，R¹为氢或甲基，R⁵各自独立地为C₁‑C₆烷基，X为酸不稳定基团，a为0，c为0或1，d为1，s为0或1，w为0，在此e为0，R⁷各自独立地为卤素原子、羟基、用酸不稳定基团保护的羟基、任选卤素‑取代的C₂‑C₇酰氧基、任选卤素‑取代的C₁‑C₆烷基、任选卤素‑取代的C₁‑C₆烷氧基，或任选卤素‑取代的C₂‑C₇烷氧基羰基，所述重复单元(1)在该聚合物中的含量为至少30mol％和所述重复单元(5)或(6)的含量为至少5mol％。