发明名称 |
p-NiO/n-ZnO异质结光催化材料及其制备方法与应用 |
摘要 |
本发明公开了一种p-NiO/n-ZnO异质结光催化材料及其制备方法与应用,所述光催化材料以ITO为衬底,在ITO衬底上生长ZnO纳米阵列,然后在ZnO纳米阵列上生长NiO网格结构,构成ZnO/NiO的双层复合结构。本发明利用水热法在透明导电薄膜衬底(ITO)上制备NiO/ZnO异质pn结,光生电子和空穴在pn结的自建电场作用有效分离,提高光催化性能,开展了光催化性能的研究,表明NiO/ZnO异质pn结在光催化降解有机物方面具有很好的应用前景。 |
申请公布号 |
CN105148924A |
申请公布日期 |
2015.12.16 |
申请号 |
CN201510519795.1 |
申请日期 |
2015.08.22 |
申请人 |
哈尔滨工业大学 |
发明人 |
矫淑杰;周廷龙;李海力;朱春光 |
分类号 |
B01J23/80(2006.01)I;A62D3/17(2007.01)I |
主分类号 |
B01J23/80(2006.01)I |
代理机构 |
哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 |
代理人 |
高媛 |
主权项 |
一种p‑NiO/n‑ZnO异质结光催化材料,其特征在于所述光催化材料以ITO为衬底,在ITO衬底上生长ZnO纳米阵列,然后在ZnO纳米阵列上生长NiO网格结构,构成ZnO/NiO的双层复合结构。 |
地址 |
150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号 |