发明名称 p-NiO/n-ZnO异质结光催化材料及其制备方法与应用
摘要 本发明公开了一种p-NiO/n-ZnO异质结光催化材料及其制备方法与应用,所述光催化材料以ITO为衬底,在ITO衬底上生长ZnO纳米阵列,然后在ZnO纳米阵列上生长NiO网格结构,构成ZnO/NiO的双层复合结构。本发明利用水热法在透明导电薄膜衬底(ITO)上制备NiO/ZnO异质pn结,光生电子和空穴在pn结的自建电场作用有效分离,提高光催化性能,开展了光催化性能的研究,表明NiO/ZnO异质pn结在光催化降解有机物方面具有很好的应用前景。
申请公布号 CN105148924A 申请公布日期 2015.12.16
申请号 CN201510519795.1 申请日期 2015.08.22
申请人 哈尔滨工业大学 发明人 矫淑杰;周廷龙;李海力;朱春光
分类号 B01J23/80(2006.01)I;A62D3/17(2007.01)I 主分类号 B01J23/80(2006.01)I
代理机构 哈尔滨龙科专利代理有限公司 23206 代理人 高媛
主权项 一种p‑NiO/n‑ZnO异质结光催化材料,其特征在于所述光催化材料以ITO为衬底,在ITO衬底上生长ZnO纳米阵列,然后在ZnO纳米阵列上生长NiO网格结构,构成ZnO/NiO的双层复合结构。
地址 150000 黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号