APPARATUS FOR TREATING SUBSTRATE AND METHOD FOR TREATING SUBSTRATE USING THE SAME
摘要
<p>기판 처리 장치는 기판 상에 배치된 전극플레이트 및 상기 전극플레이트의 가장자리에 배치된 벤딩프레임을 포함한다. 상기 벤딩프레임은 제1 방향으로 연장된 가상선을 기준으로 상기 가상선의 양측에 배치된 제1 프레임 및 제2 프레임을 포함하며, 상기 제1 프레임과 상기 제2 프레임 사이의 각도를 조절하여 상기 기판을 상기 전극플레이트에 고정시킨다.</p>
申请公布号
KR20150140497(A)
申请公布日期
2015.12.16
申请号
KR20140068557
申请日期
2014.06.05
申请人
SAMSUNG DISPLAY CO., LTD.
发明人
VALERIY PRUSHINSKIY;KIM, MIN SOO;NOH, SOK WON;KANG, TAE WOOK
