| 发明名称 |
SILICON MONOXIDE VAPOR DEPOSITION MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1892313(A4) |
申请公布日期 |
2010.01.27 |
| 申请号 |
EP20060747170 |
申请日期 |
2006.06.05 |
| 申请人 |
OSAKA TITANIUM TECHNOLOGIES CO., LTD. |
发明人 |
NATSUME, YOSHITAKE |
| 分类号 |
C23C14/24;G02F1/1333;G09F9/30 |
主分类号 |
C23C14/24 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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