| 发明名称 | 一种超薄瓷质抛光砖及其制作工艺 | ||
| 摘要 | 本发明特指一种用来生产超薄瓷质抛光砖及其制作工艺，其原料按重量百分比组成为长石类熔剂20～40％，粘土类原料20～30％，钙镁质原料0～8％，抗脆剂10～30％，坯体增强剂0.1～1％。也可外加1～20％能发射阴离子和远红外线的陶瓷粉制成功能性超薄瓷质抛光砖。将以上原料通过配料—球磨—过筛—除铁—喷雾干燥制粉—陈腐—压制成型—干燥—烧成—抛光—分级拣选，制成本发明的800x1800x(3～6)mm瓷质砖。坯体中引入了较多的抗脆剂，以保证超薄砖有足够的烧成强度。采用本发明制备的陶瓷坯体具有质轻，节能，能发射阴离子和远红外线的特点，属于新型环保类建筑装饰材料。 | ||
| 申请公布号 | CN100469734C | 申请公布日期 | 2009.03.18 |
| 申请号 | CN200710027150.1 | 申请日期 | 2007.03.14 |
| 申请人 | 萧华 | 发明人 | 刘一军;母军;汪庆刚 |
| 分类号 | C04B35/16(2006.01)I;C04B35/622(2006.01)I | 主分类号 | C04B35/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 佛山市南海智维专利代理有限公司 | 代理人 | 梁国杰 |
| 主权项 | 1. 一种超薄瓷质抛光砖，其特征在于：其坯料原料主要由如下比例的组分组成：长石类熔剂20～40％，粘土类原料20～30％，钙镁质原料0～8％，抗脆剂10～30％，坯体增强剂0.1～1％，以及能发射阴离子和远红外线的陶瓷粉体1～20％；所述的抗脆剂是氧化铝粉、煅烧铝矾土、氢氧化铝、铝矾土、氧化锆中的一种或几种组合。 | ||
| 地址 | 528211广东省佛山市南海区西樵太平工业区广东蒙娜丽莎陶瓷有限公司 | ||