发明名称 | 与光学元件的光学区域相关的方法和系统 | ||
摘要 | 本发明涉及在大于像差典型受限测量区域的光学区域中确定光学元件的高阶像差。其可以由本发明的设备、系统和方法实现,优选地,通过像差测量而获得的泽尼克多项式数据被拟合成圆锥函数。该圆锥函数在测量区域与光学区域之间平滑且连续地增加或减小,以使数据能够被外推,从而精确地确定光学区域的像差。根据本发明,多个呈方位角变化的独立圆锥加零阶圆柱形截面可以非常精确地描绘由散焦、散光、球面像差、二级散光和四叶草形像差构成的波前像差。对彗形像差项和三叶草形像差项所作描绘不是同样地好,因为它们以径向分量的三阶的形式变化。然而,描绘误差相对较小。一个倾斜项被加入,以计算彗形像差项和三叶草形像差项的倾斜分量。 | ||
申请公布号 | CN100464689C | 申请公布日期 | 2009.03.04 |
申请号 | CN03801614.1 | 申请日期 | 2003.09.10 |
申请人 | 博士伦公司 | 发明人 | 格里菲斯·E·阿尔特曼 |
分类号 | A61B3/107(2006.01) | 主分类号 | A61B3/107(2006.01) |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 蔡胜利 |
主权项 | 1.一种用于在一个光学区域中为光学元件确定像差校正光学表面的方法,该光学区域大于系统光学像差的测量区域,所述方法包括:在测量区域中获取像差数据;将测量的像差数据表达为数学式;使像差数据与校正表面的几何形状相符合;用一个平滑且一致地增大或减小的单调函数拟合像差数据,并且将像差数据外推到系统的光学区域。 | ||
地址 | 美国纽约 |