发明名称 制造磁记录介质的方法和用于其的模具
摘要 本发明公开了一种制造磁记录介质的方法和用于其的模具。在衬底上的磁层表面上形成阻挡膜。在磁层表面上覆盖模具。该模具包括围绕槽交替布置在平坦表面上的磁区域和非磁区域。使所述阻挡膜凸出,以使得平坦表面驱动阻挡膜进入模具的槽中。在保持模具与磁层接触的同时槽内的阻挡膜固化。向与磁层接触的模具施加磁场。从磁区域泄漏的磁场作用在磁层上。于是基于所泄漏的磁场来将磁信息写入磁层中。可以基于固化的阻挡膜在磁层中建立记录轨道。
申请公布号 CN100456360C 申请公布日期 2009.01.28
申请号 CN200510077628.2 申请日期 2005.06.17
申请人 富士通株式会社 发明人 今村孝浩;中村裕
分类号 G11B5/84(2006.01);G11B5/82(2006.01) 主分类号 G11B5/84(2006.01)
代理机构 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 代理人 赵淑萍
主权项 1.一种制造磁记录介质的方法,包括:在衬底的表面上的磁层表面上形成阻挡膜;使模具的表面接触所述磁层的所述表面,所述模具的所述表面包括在平坦表面中限定槽以使所述阻挡膜凸出的第一区域,所述模具的所述表面还包括限定提供磁区域及非磁区域的交替布置的平坦表面的第二区域;在保持所述模具与所述磁层接触的同时固化所述阻挡膜;以及在保持所述模具与所述磁层接触的同时向所述磁区域施加磁场。
地址 日本神奈川县