发明名称 |
铪系化合物、形成铪系薄膜的材料和形成铪系薄膜的方法 |
摘要 |
提供常温下为液体并富有稳定性的铪系化合物。还提供可稳定供应原料、稳定形成高品质的铪系薄膜的技术。特别是提供为下述通式[I]表示的化合物的形成铪系薄膜的材料。通式[I]:LHf(NR<SUP>1</SUP>R<SUP>2</SUP>)<SUB>3</SUB>其中,L为环戊二烯基或取代的环戊二烯基;R<SUP>1</SUP>、R<SUP>2</SUP>为烷基,R<SUP>1</SUP>和R<SUP>2</SUP>彼此相同或不同。 |
申请公布号 |
CN101341155A |
申请公布日期 |
2009.01.07 |
申请号 |
CN200680045244.5 |
申请日期 |
2006.11.29 |
申请人 |
TRI化学研究所股份有限公司 |
发明人 |
平木忠明;三桥智;太附圣;椿谷晓人;金炳洙;刘升镐 |
分类号 |
C07F7/00(2006.01);C23C16/18(2006.01) |
主分类号 |
C07F7/00(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
吴娟;李平英 |
主权项 |
1.化合物,其特征在于:以下述通式[I]表示,通式[I]LHf(NR1R2)3 其中,L为环戊二烯基或取代的环戊二烯基;R1、R2为烷基,R1和R2 彼此不同或相同。 |
地址 |
日本山梨县 |