发明名称 |
一种多孔射流对撞均质器 |
摘要 |
本实用新型涉及一种多孔射流对撞均质器,包括均质座、均质环和均质杆,所述均质座上端中部设有沉孔,均质座下端设有环形凹槽,沉孔底端面在环形凹槽顶端面下方,沉孔与环形凹槽之间通过两相互垂直的通孔连通,通孔一端在靠近环形凹槽顶部处,另一端在靠近沉孔底部处;所述均质座上端套在均质环内,均质环内套有均质杆,均质座顶端与均质杆一端接触。本实用新型的有益效果:通过对流体的多次撞击,在不增加流体压力的情况下极大地提高了均质效果;在一定程度上节约能源,降低能耗,节约了成本,有利于产品的推广。 |
申请公布号 |
CN201168576Y |
申请公布日期 |
2008.12.24 |
申请号 |
CN200820107482.0 |
申请日期 |
2008.03.28 |
申请人 |
赵国庆 |
发明人 |
赵国庆 |
分类号 |
B01F5/02(2006.01) |
主分类号 |
B01F5/02(2006.01) |
代理机构 |
北京纽乐康知识产权代理事务所 |
代理人 |
田磊;张朝元 |
主权项 |
1、一种多孔射流对撞均质器,包括均质座(1)、均质环(2)和均质杆(3),所述均质座(1)上端套在均质环(2)内,均质环(2)内套有均质杆(3),均质座(1)顶端与均质杆(3)一端接触,其特征在于:均质座(1)上端中部设有沉孔(4),均质座(1)下端设有环形凹槽(5),沉孔(4)与环形凹槽(5)之间通过若干通孔(6)连通。 |
地址 |
065000河北省廊坊市晨光路晨光里1-6-501号 |