具有凹陷式滤色片阵列的成像器及其形成方法

摘要

本发明揭示一种使用经图案化金属作为蚀刻停止件的凹陷式滤色片阵列及一种形成所述阵列的方法。在一个实施例中，在形成一个或一个以上金属互连元件层的同时，在半导体介电层中形成至少一个金属蚀刻停止件，借此减少必需的工艺步骤的数目并降低成本。所述蚀刻停止件可形成于其中存在其它金属元件的任何层处。

主权项

1、一种形成包括衬底及介电层的半导体结构的方法，所述方法包括以下步骤：在所述介电层中形成至少一个水平的经图案化金属层，所述金属层包括位于固定阵列区上方的蚀刻停止件及用于连接到电子电路的至少一个互连件。