图案描画装置及图案描画方法

摘要

本发明涉及图案描画装置及图案描画方法。本发明提供一种通过时间上连续的描画处理能够对基板整个面进行充分的能量束的可变照射处理的技术。基于合成数据(824)来进行基板(90)的曝光处理，该合成数据(824)是通过求出各照射位置(像素)的照射强度值的最大值的逻辑和运算处理对与基板(90)上的各区域相对应的照射数据进行合成的数据。根据合成数据(824)，对于抗蚀剂层RG比较厚的边缘区域(902)，用比抗蚀剂层RG比较薄的图案区域(901)更大的照射强度来进行光束的照射(照射强度值为FF(HEX)＞55(HEX))。由此，通过时间上连续的描画处理，能够进行足够使抗蚀剂变性的曝光处理。

主权项

1.一种图案描画装置，用于在基板上描画图案，该基板在其主面上具有感光材料层，其特征在于，具有：保持单元，用于保持基板；照射单元，对所述保持单元所保持的基板照射用于描画的能量束，所述能量束的照射强度能够改变；移动单元，使所述保持单元相对于所述照射单元移动；控制单元，通过向所述照射单元提供多值形式的控制信号，对所述能量束的照射强度进行多等级控制。