| 发明名称 | 荧光体的表面处理方法及平面显示装置的制造方法 | ||
| 摘要 | 使有机酸金属盐与荧光体粒子接触，从而使有机酸金属盐附着，形成表面形成有有机酸金属盐层的荧光体粒子，使用该荧光体粒子形成荧光体层时，在进行烧成的同时将有机酸金属盐层制成金属氧化膜。 | ||
| 申请公布号 | CN101541917A | 申请公布日期 | 2009.09.23 |
| 申请号 | CN200880000209.0 | 申请日期 | 2008.02.12 |
| 申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 石井启太;青木克之 |
| 分类号 | C09K11/08(2006.01)I;H01J9/227(2006.01)I | 主分类号 | C09K11/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 冯 雅 |
| 主权项 | 1.一种荧光体的表面处理方法，其特征在于，具有如下工序：使有机酸金属盐与荧光体粒子接触，从而使有机酸金属盐附着，形成表面形成有有机酸金属盐层的荧光体粒子。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||