基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置

摘要

一种能降低在曝光装置内的载物台等机构的污染的基板处理方法、基板处理系统以及基板处理装置。将仿真基板向在曝光前后进行抗蚀剂涂布处理和显影处理的基板处理装置搬送，其中仿真基板在校准处理中使用，而该校准处理是在对应于液浸曝光的曝光单元中调整图案图像的曝光位置的处理。在基板处理装置中，将接受到的仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到背面清洗处理单元中执行背面清洗处理。其后再次将仿真基板表面和背面反转，然后将其搬送到表面清洗处理单元而执行表面清洗处理。清洗后的仿真基板再次从基板处理装置返回到曝光单元中。由于能够在曝光单元侧使用清洁的仿真基板执行校准处理，因此能够降低基板载物台等曝光单元内的机构的污染。

主权项

1.一种基板处理方法，将在基板处理装置中进行了抗蚀剂涂布处理后的基板搬送到曝光装置中进行图案曝光之后，使该基板返回到所述基板处理装置中进行显影处理，其特征在于，该方法包括：涂布处理工序，在所述基板处理装置中对基板进行抗蚀剂涂布处理；基板送出工序，将所述基板从所述基板处理装置搬送到所述曝光装置中；曝光工序，在所述曝光装置中对所述基板进行图案图像的曝光；基板归还工序，将所述基板从所述曝光装置搬送到所述基板处理装置中；显影处理工序，在所述基板处理装置中对所述基板进行显影处理；曝光位置调整工序，使用仿真基板，调整在所述曝光装置中对所述基板进行曝光的图案图像的曝光位置；仿真基板送出工序，将仿真基板搬送到所述基板处理装置中，其中所述仿真基板在所述曝光装置内用于调整图案图像的曝光位置；第一反转工序，在所述基板处理装置内，以使所述仿真基板的背面成为上表面的方式反转所述仿真基板；清洗工序，在所述基板处理装置内对所述仿真基板的背面进行清洗；第二反转工序，在所述基板处理装置内，以使背面清洗后的所述仿真基板的背面成为下表面的方式反转所述仿真基板；仿真基板归还工序，将清洗后的所述仿真基板搬送到所述曝光装置中。