发明名称 | 荧光X射线分析装置 | ||
摘要 | 本发明的课题提供一种荧光X射线分析装置,其采用单一检测器,形成简单、低价格的结构,同时,可在较宽的波长范围内以充分的灵敏度,测定波长不同的多条2次X射线的相应强度。在包括X射线源(3)、发散细缝(5)、分光元件(7)、单一检测器(9)的荧光X射线分析装置中,分光元件(7)采用多个弯曲分光元件(7A,7B),该多个弯曲分光元件(7A,7B)沿从试样(1)和检测器(9)观看,2次X射线的光路(6,8)扩展的方向并排地固定,由此,测定波长不同的多条2次X射线(8a,8b)的相应强度。 | ||
申请公布号 | CN101520422A | 申请公布日期 | 2009.09.02 |
申请号 | CN200910132664.2 | 申请日期 | 2004.03.11 |
申请人 | 株式会社理学 | 发明人 | 河野久征;庄司孝;堂井真 |
分类号 | G01N23/223(2006.01)I | 主分类号 | G01N23/223(2006.01)I |
代理机构 | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人 | 刘激扬 |
主权项 | 1. 一种荧光X射线分析装置,该荧光X射线分析装置包括:对试样照射1次X射线的X射线源;使从上述试样发生的2次X射线发散的发散细缝;对通过该发散细缝发散的2次X射线进行分光、会聚的分光元件;测定通过该分光元件分光的2次X射线的强度的单一检测器;上述分光元件采用多个弯曲分光元件,该多个弯曲分光元件沿从上述试样和检测器观看,2次X射线的光路扩展的方向并排地固定,由此,测定波长不同的多条2次X射线的相应强度;上述分光元件包括多个分光元件,该多个分光元件分别对应于试样的间隔开的部位,对相同波长的2次X射线进行分光。 | ||
地址 | 日本国东京都 |