发明名称 |
减少基板处理弯液面留下的进入和退出痕迹 |
摘要 |
本发明描述了一种生成和保持用于处理基板的弯液面的趋近头。该趋近头包括排列于趋近头表面的多个弯液面喷嘴,该弯液面喷嘴被配置为向弯液面供应液体,排列于该趋近头的该表面的多个真空开口,该真空开口被布置为完全包围该多个弯液面喷嘴,排列于趋近头表面的多个气体喷嘴,该多个气体喷嘴至少部分包围该真空开口。该趋近头还包括用于减少基板的头端边沿和尾端边沿的痕迹的尺寸和频率的装置,该装置辅助并促使来自弯液面的液体从该基板和该载具间的空隙排出。 |
申请公布号 |
CN101523564A |
申请公布日期 |
2009.09.02 |
申请号 |
CN200780036488.1 |
申请日期 |
2007.09.27 |
申请人 |
朗姆研究公司 |
发明人 |
罗伯特·奥唐奈;约翰·德拉里奥斯;迈克·拉夫金 |
分类号 |
H01L21/304(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/304(2006.01)I |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 |
代理人 |
章社杲;吴贵明 |
主权项 |
1. 一种生成和保持用于处理基板的弯液面的趋近头,该基板由载具支撑,该载具包含围绕该基板的框架,该趋近头包含:排列于该趋近头表面的多个弯液面喷嘴,该弯液面喷嘴被配置为向弯液面供应弯液面液体;排列于该趋近头的该表面的多个真空开口,该真空开口被布置为完全包围该多个弯液面喷嘴;及用于减少基板的头端边沿和尾端边沿的进入或退出至少之一的痕迹的尺寸和频率的装置,该装置辅助并促使来自弯液面的液体从该基板和该载具之间的空隙排出。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |