发明名称 氧化镧基烧结体、包含该烧结体的溅射靶、氧化镧基烧结体的制造方法及通过该制造方法制造溅射靶的方法
摘要 本发明涉及一种氧化镧基烧结体,以氧化镧作为基础成分,含有氧化钛、氧化锆、氧化铪的一种或两种以上,其余为氧化镧和不可避免的杂质。还涉及一种氧化镧基烧结体的制造方法,使用La2(CO3)3粉末或La2O3粉末作为氧化镧原料粉末,使用TiO2、ZrO2、HfO2粉末的一种或两种以上作为添加氧化物,将其以用金属换算添加氧化物的金属成分的组成比为规定值的方式进行配合并混合后,将该混合粉末在大气中进行加热合成,然后将该合成材料粉碎得到粉末,然后将该合成粉末进行热压得到烧结体。本发明可以防止与水分或二氧化碳结合形成氢氧化物等而变为粉末状,可以长期保存。另外,本发明提供通过使用该溅射靶进行成膜,可以高效且稳定地提供High-K栅绝缘膜用氧化物的技术。
申请公布号 CN102089258A 申请公布日期 2011.06.08
申请号 CN200980126610.3 申请日期 2009.06.23
申请人 JX日矿日石金属株式会社 发明人 佐藤和幸;小井土由将
分类号 C04B35/50(2006.01)I;C04B35/00(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I 主分类号 C04B35/50(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 王海川;穆德骏
主权项 一种氧化镧基烧结体,以氧化镧作为基础成分,其特征在于,含有氧化钛、氧化锆、氧化铪的一种或两种以上,其余为氧化镧和不可避免的杂质。
地址 日本东京
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