发明名称 |
从电极组件上清洁表面金属污染物的方法 |
摘要 |
清洁电容耦合等离子体反应器电极并减少表面粗糙度,以便清洁过的电极满足表面污染物规范并提高产量的系统而有效的方法。预清洁该清洁过程中使用的工具有助于防止待清洁电极的污染。 |
申请公布号 |
CN101652837B |
申请公布日期 |
2011.06.08 |
申请号 |
CN200880010414.5 |
申请日期 |
2008.03.27 |
申请人 |
朗姆研究公司 |
发明人 |
洪·希赫;尹遥波;顺·杰克逊·吴;阿芒·阿沃扬;约翰·E·多尔蒂;琳达·蒋 |
分类号 |
H01L21/3065(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/3065(2006.01)I |
代理机构 |
上海胜康律师事务所 31263 |
代理人 |
周文强;李献忠 |
主权项 |
一种清洁用于在等离子体室中产生等离子体并包含暴露于等离子体的硅表面的电极组件的方法,该方法包括:用硝酸溶液预清洁液槽的内衬层和该液槽内用于悬挂该电极组件的元件,其中该硝酸溶液包含小于10%的硝酸;使用该预清洁过的元件在该液槽的该预清洁过的内衬层中悬挂该电极组件;将该电极组件浸入该液槽的该预清洁过的内衬层所容纳的超纯净水中或用该超纯净水清洁该电极组件;从该液槽的该预清洁过的内衬层移除该电极组件;以及通过用包含氢氟酸、硝酸、乙酸和水的酸溶液接触该硅表面,从该硅表面除去污染物,其中该电极组件包含具有多个出气口的喷淋头电极。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |