| 发明名称 | 处理和制备电子照相载体的方法，芯材料和载体 | ||
| 摘要 | 本发明涉及处理和制备电子照相载体的方法，芯材料和载体。所述处理电子照相载体的方法包括用超临界纯水处理至少含有芯材料和涂层的电子照相载体，使得所述涂层与所述芯材料分离，其中所述超临界纯水是通过使在25℃的电导率为1μS·cm或更低的纯水达到超临界状态而获得的。 | ||
| 申请公布号 | CN102087492A | 申请公布日期 | 2011.06.08 |
| 申请号 | CN201010578490.5 | 申请日期 | 2010.12.08 |
| 申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 大滝一实;八木慎一郎;八代正和;柿本真行;清水孝幸 |
| 分类号 | G03G9/113(2006.01)I | 主分类号 | G03G9/113(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 处理电子照相载体的方法，包括：用超临界纯水处理至少含有芯材料和涂层的电子照相载体，使得所述涂层与所述芯材料分离，其中所述超临界纯水是通过使在25℃的电导率为1μS·cm或更低的纯水达到超临界状态而获得的。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||