| 摘要 |
本发明系在提供一种工业上电浆制程装置，如电浆蚀刻、电浆辅助化学气相沉积及溅镀，用于非对称无线射频低压电浆之电流测量，包含一测量计电极(2)具有一内部导体(3)及一电介质(4)，至少覆盖它的部份周围表面(5)以做为绝缘体，该测量计电极(2)与电介质(4)系置于一容室(12)围壁(11)内之凸缘或凹处(10)，该装置(1)大致符合以下之方程式：Z0为该装置(1)之特性阻抗，μr为相对透磁率，εr为该电介质(4)的介电常数，D为凸缘或凹处(10)的内径，d为该测量计电极(2)的内部导体(3)的外径。 |
