| 摘要 |
<p>본 발명의 회전형 가스 분사 장치는 제 1 반응유체 유로와 제 1 냉각유체 유로를 가지는 구동축과, 상기 구동축을 둘러싸는 하우징과, 상기 하우징의 측벽을 관통하여 상기 제 1 반응유체 유로 및 상기 제 1 냉각유체 유로와 각각 연결되는 제 2 반응유체 유로 및 제 2 냉각유체 유로와, 상기 구동축 하부의 상기 제 1 반응유체 유로 및 상기 제 1 냉각유체 유로와 각각 연결되는 제 3 반응유체 유로 및 제 3 냉각유체 유로를 가지며, 다수의 반응유체 분사공이 상기 제 3 반응유체 유로의 하부에 연결되어 형성되는 분사기를 포함한다. 본 발명은 공정시 반응유체의 주입과 동시에 냉각유체를 주입함으로써, 회전형 분사 장치 및 반응유체의 온도를 제어하는 것을 특징으로 한다.</p> |
