电吸收调节之法布里-珀罗（ＦＡＢＲＹ-ＰＥＲＯＴ）雷射及其制造方法

摘要

所揭系为一种电吸收调制的法布里-珀罗雷射及其制造方法。在一态样中，一光源包含一法布里-珀罗(FP)雷射系可操作来产生多波模雷射光，一电吸收调制器(EAM)系可选择性地吸收及透射通过其中的雷射光，及一光隔离器。该光隔离器系设在一介于该FP雷射与EAM之间的光径上。该光隔离器系能将沿该光径前进的雷射光由该FP雷射传送至该EAM。

主权项

一种可调制的光源，包含：一法布里-珀罗(FP)雷射可操作来产生多模雷射光，其中该多模雷射光具有一最大为3nm之均方根光谱线宽；一电吸收调制器(EAM)，其经组态以选择性地吸收及透射通过其中的该多模雷射光，使得在该FP雷射输出光谱之一中心及该EAM之一零偏压吸收缘波长间之一相对波长偏移在约20℃至90℃的温度范围内系实质上为固定；及一光隔离器，其在一介于该FP雷射与该EAM之间的光径上，且经组态以将沿该光径前进的该多模雷射光由该FP雷射传送至该EAM。如申请专利范围第1项之光源，其中该多模雷射光具有一最大为1nm之均方根光谱线宽。一种可调制的光源，包含：一法布里-珀罗(FP)雷射可操作来产生多模雷射光，其中该多模雷射光具有一波长温度系数；一电吸收调制器(EAM)，其经组态以选择性地吸收及透射通过其中的该多模雷射光，其中该EAM具有一吸收缘温度系数，其在一被指定用于该光源之操作范围内会等于该波长温度系数，而相差不超过±25%，使得在该FP雷射输出光谱之一中心及该EAM之一零偏压吸收缘波长间之一相对波长偏移在约20℃至90℃的温度范围内系实质上为固定；及一光隔离器，其在一介于该FP雷射与该EAM之间的光径上，且经组态以将沿该光径前进的该多模雷射光由该FP雷射传送至该EAM。一种可调制的光源，包含：一法布里-珀罗(FP)雷射可操作来产生多模雷射光；一电吸收调制器(EAM)，其经组态以选择性地吸收及透射通过其中的该多模雷射光，其中该FP雷射和该EAM在被指定用于该光源的多个操作条件下其温度差异至多为15℃，使得在该FP雷射输出光谱之一中心及该EAM之一零偏压吸收缘波长间之一相对波长偏移在约20℃至90℃的温度范围内系实质上为固定；及一光隔离器，其在一介于该FP雷射与该EAM之间的光径上，且经组态以将沿该光径前进的该多模雷射光由该FP雷射传送至该EAM；其中该光源不与任何直接主动调温装置耦接。一种制造可调制光源的方法，包含：提供一法布里-珀罗(FP)雷射，其可操作来产生多模雷射光，其中该多模雷射光具有一波长温度系数；提供一电吸收调制器(EAM)，其经组态以选择性地吸收及透射通过其中的该多模雷射光，其中该EAM具有一吸收缘温度系数，其在一被指定用于该光源之操作范围内会等于该波长温度系数，而相差不超过±25%，使得在该FP雷射输出光谱之一中心及该EAM之一零偏压吸收缘波长间之一相对波长偏移在约20℃至90℃的温度范围内系实质上为固定；及提供一光隔离器，其在一介于该FP雷射与该EAM之间的光径上，且经组态以将沿该光径前进的该多模雷射光由该FP雷射传送至该EAM。