金属膜研磨用垫及使用它之金属膜之研磨方法

摘要

提供一种研磨垫及使用该研磨垫之金属膜之研磨方法，该研磨垫在研磨形成于半导体基板上等的金属膜时，能够达成提升被研磨面的平坦性及平坦化效率，且擦伤的产生较少。;一种金属膜研磨用垫及使用该研磨垫之金属膜之研磨方法，该金属膜研磨用垫在80℃之储存弹性模数为200~900MPa，且在110℃之储存弹性模数为40MPa以下。