发明名称 |
具有高侧向出光量的发光二极体制造方法 |
摘要 |
本发明提供一种具有高侧向出光量的发光二极体制造方法,首先自基材磊晶形成磊晶膜,接着于磊晶膜上形成保护膜,然后自保护膜向下切割磊晶膜至深度到达基材的顶、底面之间,接着蚀刻粗化裸露的外周面,然后移除保护膜而制得多数磊晶块,接着于每一磊晶块上设置二电极,最后施加应力使基材沿切割处分裂,制得多数具有高侧向出光量的发光二极体,本发明开发出一种新的且可在制作过程中粗化磊晶膜侧周面的制造方法,使得所制得的发光二极体因侧周面被粗化而增加侧向出光的机率,有效提升发光二极体总出光量俾提升整体亮度。 |
申请公布号 |
TWI390774 |
申请公布日期 |
2013.03.21 |
申请号 |
TW098137569 |
申请日期 |
2009.11.05 |
申请人 |
新世纪光电股份有限公司 台南市善化区台南科学工业园区大利三路5号 |
发明人 |
李允立 |
分类号 |
H01L33/22 |
主分类号 |
H01L33/22 |
代理机构 |
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代理人 |
高玉骏 台北市松山区南京东路3段248号7楼;杨祺雄 台北市松山区南京东路3段248号7楼 |
主权项 |
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地址 |
台南市善化区台南科学工业园区大利三路5号 |